■ 主要構成

第１部　光磁気ディスク材料とその特性

第２部　光磁気ディスク製造技術

第３部　光磁気ディスク評価技術とその特性

第４部　ドライブ装置関連製造技術

■ 内容目次

1. 製造・評価技術
2. 基本原理と構造
3. 開発の現状

1. 光学的特性
   1.1　光線透過率
   1.2　屈折率
   1.3　複屈折
2. 機械特性
   2.1　面振れ変位
   2.2　反り面
   2.3　面振れ加速度
   2.4　偏芯量
   2.5　偏芯加速度
3. その他の要求特性
   3.1　耐熱性
   3.2　吸湿性および水・酸素の透過性
   3.3　基板中の異物、不純物
   3.4　記録膜との密着性
   3.5　表面硬度および耐薬品性
4. 今後の基板材料

1. ガラス材料の特徴
2. ディスク基板用薄板ガラスの製法
   2.1　コルバーン法
   2.2　フロート法
   2.3　フュージョン法
3. ディスクの基板加工
4. ガラスの強度
5. ガラスの強化法
6. ガラス基板の回転強度
7. 光ディスク用基板
8. 光ディスクの製造工程
   8.1　ゾルゲル法プリグループ基板
   8.2　ドライエッチング法プリグループ基板

1. 光ディスク用PCについて
   1.1　光ディスク用PCの分子量について
   1.2　光ディスク用PC中の不純物について
   1.3　ダスト管理について
   1.4　成形に関する配慮
2. 光ディスク用PCの物性について
   2.1　一般物性
   2.2　吸収率及び吸水寸法変化
   2.3　光学特性
   2.4　流動特性
3. ディスクグレードの成形加工
   3.1　ディスク成形の特徴
   3.2　ディスク成形条件
4. 加熱処理による複屈折および転写性の変化
5. 材料開発動向
   5.1　PCの流動性の改良
   5.2　BPA以外の骨格を有するもの
   5.3　PCの固有の複屈折を消去する材料に関するもの

1. APO^®の開発経緯
2. APO^®樹脂の基本物性
   2.1　物理的性質
   2.2　光学的性質
   2.3　機械的性質
   2.4　熱的性質
   2.5　成形性
   2.6　耐薬品性
   2.7　耐久性
3. APO^®光磁気ディスクの特性
   3.1　信号特性
   3.2　機械特性の信頼性
   3.3　記録膜の密着性

1. 多層膜構造における多重干渉
2. 多層膜構造の例
   2.1　基板とRE-TM膜の間に透明膜を設ける構造
   2.2　RE-TM膜の背面に反射膜を設ける反射膜構造
   2.3　RE-TM膜と反射膜の間に透明膜の層を形成する反射膜構造の改良型
   2.4　4層膜構造
3. 窒化物透明膜による信頼性の向上
4. 寿命予測

1. 2層膜の光磁気読み出し性能
2. 交換結合2層膜の磁化過程
3. 交換結合2層膜の記録過程
4. 2層膜の応用例
   4.1　GdFeCo／TbFe2層膜
   4.2　TbFeCo／TbFeCo2層膜
5. 2層膜の新しい応用

1. RE-TM膜の腐食
   1.1　孔食
   1.2　表面酸化
   1.3　選択酸化
2. 光磁気ディスクの腐食防止方法
   2.1　保護膜の開発
   2.2　RE-TM膜自体の高耐食化
   2.3　その他

1. 光磁気記録用酸化物材料
2. Bi置換ガーネット
   2.1　概要
   2.2　磁気異方性
   2.3　書き込み特性
3. 磁気光学効果
   3.1　Bi置換ガーネット
   3.2　Ce置換ガーネット
4. 読み出し特性
   4.1　GGG上のスパッタガーネット膜のC／N
   4.2　ガラス基板上のスパッタガーネットの場合
5. 熱分解法によるガーネット膜
   5.1　熱分解法によるガーネットの作製と特性
   5.2　熱分解法による膜への不純物添加効果
   5.3　熱分解法に於ける熱処理条件
6. ランプアニールによるガーネット膜の作製

1. マンガン化合物
   1.1　MnBi
   1.2　その他のMn化合物
2. 貴金属―コバルト（合金および人工格子膜）

1. スタンパ
   1.1　マスタリング工程の概要
   1.2　記録原板の加工
   1.3　原盤記録（カッティング）
   1.4　露光と現像
   1.5　溝の形成
   1.6　スタンパ製作技術の課題

1. 表面導体化
2. 電鋳
   2.1　ニッケルめっき浴の種類と組成
   2.2　めっき液の管理
   2.3　めっき浴温度
   2.4　めっき電流密度

1. スタンパー裏面研磨
2. 超精密研磨の種類
3. スタンパー裏面研磨の高精度化の基本

1. 熱可塑性樹脂の射出成形
2. プラスチックの基本的性質
   2.1　分子構造
   2.2　粘性と弾性
   2.3　密度
   2.4　容積圧縮性
   2.5　分子配合性
3. PC光磁気ディスク基板の射出成形
   3.1　基板品質特性と成形要因
   3.2　機械特性（面振れの低減方法）
   3.3　光学特性（複屈折の低減方法）
   3.4　再生信号特性（セクターマーク変調度の改善方法）

1. 2P法のあらまし
2. 装置の基本構成要素
3. 複製工程の詳細説明
   3.1　スタンパ
   3.2　基板
   3.3　紫外線硬化樹脂
   3.4　紫外線光源
4. 複製基板の評価
   4.1　偏芯
   4.2　面振れ
   4.3　転写性

1. フォトマスクの作製技術
2. 密着露光法
3. 反応性イオンエッチング法
4. ディスク特性

1. スパッタリング装置
   1.1　直流スパッタリング法
   1.2　高周波スパッタリング法
   1.3　マグネトロンスパッタリング法
2. 光磁気ディスクの特性とスパッタリング
3. 光磁気記録膜とスパッタリング
   3.1　ターゲット
4. 成膜条件と磁気特性、ディスク特性
   4.1　スパッタリングガス圧の影響
   4.2　スパッタリングガス中不純成分の影響
   4.3　組成変調膜
5. 対向ターゲット方式スパッタリング

1. 酸化物媒体
   1.1　置換型ガーネット
   1.2　スパッタガーネットの特徴
2. 問題点
   2.1　媒体ノイズ
   2.2　半導体レーザの適用
3. 成膜法
   3.1　結晶化方法
   3.2　スパッタ条件
4. 膜の諸性質
   4.1　微細構造
   4.2　磁気特性
   4.3　ファラデー回転
5. 記録再生特性
   5.1　Bi、Ga：DyIG膜のC／N
   5.2　Ce、Ga：DyIG膜のC／N

1. 真空蒸着法
2. 代表的な真空蒸着法
   2.1　抵抗加熱蒸着法とフラッシュ蒸着法
   2.2　電子ビーム蒸着法
   2.3　イオンプレーティング蒸着
   2.4　クラスタイオンビーム蒸着

1. イオンビームスパッタリング法について
2. 装置構成と特徴
3. IBS法によるRE-TM合金薄膜
4. RIBS法によるSiN保護膜
5. インライン型IBS装置

1. 光磁気用ターゲットの製造法と要求される特性について
   1.1　光磁気用ターゲットに要求される特性
   1.2　製造法の分類―溶解鋳造技術を中心にして
2. 溶解、鋳造法―カルシア溶製法―の光磁気合金系ターゲットへの応用例
   2.1　カルシア溶製法の特徴と応用例
   2.2　溶解、鋳造（カルシア溶製）光磁気合金ターゲットの特徴
3. まとめと今後の課題

1. 合金粉末冶金法
2. 還元拡散法によるRE-TM合金ターゲットの製法
3. 今後の課題

1. 焼結多層ターゲット開発の経緯
2. 焼結多層ターゲット及びそのスパッター特性

1. 自公転方式の原理、特徴
2. 自公転式インラインスパッタ装置
   2.1　構成
   2.2　生産性とタクトタイム
   2.3　脱ガスとストッカー室
   2.4　カソードの種類とメンテナンス
   2.5　ゴミ、剥離、ピンホール
   2.6　両面成膜
   2.7　ターゲット
   2.8　その他自公転方式の特徴

1. 装置構成
2. 成膜工程
   2.1　PC基板の前処理
   2.2　誘電体膜の成膜
   2.3　磁性体膜の成膜
   2.4　反射膜の成膜
3. ディスク特性
   3.1　成膜条件
   3.2　記録再生特性のキャリア内の分布
   3.3　記録再生特性のキャリア間の分布
   3.4　ビットエラーレート

1. 清浄度規格
2. クリーンルームの構造
   2.1　構造と清浄度
   2.2　気流と粒子分布
3. 付着制御
4. 光磁気ディスククリーンルームの検討
5. 評価法

1. 磁気特性（飽和磁化Ms、残留磁化Mr、保磁力Hc、キューリ温度Tcおよび磁気異方性定数Ku）
   1.1　VSMの原理
   1.2　VSMによる磁化、保磁力およびキュリー温度の測定
   1.3　磁気異方性定数Ku
2. 光学・磁気光学特性
   2.1　反射率
   2.2　力―回転角

1. 偏光顕微鏡による静的観察法
2. 短パルスレーザ光を用いた動的観察法
3. ローレンツ電子顕微鏡観察法

1. 機械特性の測定項目
   1.1　光ディスクの構造
   1.2　形状特性
   1.3　動的特性
2. 機械特性の測定方法
   2.1　測定器の条件
   2.2　測定法
   2.3　測定上の注意点
3. 機械特性の評価
   3.1　開発試作時の評価
   3.2　生産時の検査
   3.3　信頼性試験
4. 新しい試験法
   4.1　高速度変位
   4.2　Track Deviation
5. 今後の動向

1. 評価に必要な装置
   1.1　入力信号系
   1.2　出力信号測定系
   1.3　ドライブ
2. 消去記録特性
   2.1　記録パワー
   2.2　消去パワー
   2.3　記録消去磁界
3. 再生特性
   3.1　再生パワーとC／N
   3.2　ピックアップの位相差とC／N
4. 信頼性試験
   4.1　繰り返し記録消去試験
   4.2　再生安定性

1. 磁界変調記録の原理
2. 磁気ディスクとの違い
3. 磁界変調光磁気記録の特徴
4. 各部の構成方法
   4.1　光ヘッド
   4.2　磁気ヘッド
   4.3　ディスク基板
   4.4　溝構造と積層構造
   4.5　記録媒体
   4.6　保護コート
5. 記録再生特性
   5.1　変調方式、フォーマット
   5.2　高精度エッジ検出方式
   5.3　記録再生特性

1. 基板の複屈折率の測定
   1.1　複屈折率測定の目的
   1.2　複屈折率測定機
2. 基板の反り角の測定
   2.1　反りの定義
   2.2　反り角測定装置の実例

1. 寿命評価法とその問題点
2. 加速試験のための基礎検討
3. 寿命試験の例
4. 今後の課題

1. 光学ヘッド用半導体レーザの出力特性と光学部品
   1.1　射出角特性とコリメータレンズ
   1.2　非点隔差特性とビーム整形プリズム
2. 発振モード特性とスペクトルに起因する雑音特性
   2.1　発振波長特性
   2.2　発振スペクトル特性
   2.3　温度変化誘起雑音と戻り光誘起雑音
3. 光ディスクヘッド用半導体レーザの雑音低減策

1. 半導体レーザの波長変動について
2. 対物レンズ
3. 光ピックアップの作動原理とレンズ仕様
4. 非球面プラスチックレンズの製法
5. 光学性能
6. 対環境性能
7. MO用非球面プラスチックレンズ
   7.1　複屈折の改良
   7.2　対環境特性の改善

1. ホログラム光学素子とは
2. 誤差検出機能
3. 偏光性ホログラム素子
4. 光磁気ヘッドへの応用

1. 集光グレーティングカップラ（FGC）
2. 3焦点FGCによる偏光回転検出の原理
3. 集積型光磁気ヘッドの構成
4. デバイス作製と実験結果

1. 光ピックアップの役割とその構成
   1.1　光メモリシステム
   1.2　基本構成
2. 光源
   2.1　光源が必要とする性質
   2.2　レーザの種類
   2.3　半導体レーザの課題
3. 集光レンズ
   3.1　レンズと光の収束
   3.2　光ディスク用集光レンズの性能
   3.3　焦点深度
   3.4　新しいレンズ
4. ビームスポット制御
   4.1　フォーカス誤差信号の検出
   4.2　トラッキング誤差信号の検出
5. 将来のピックアップ

1. レンズアクチュエータの機能、要求される性能
   1.1　フォーカシングアクチュエータ
   1.2　トラッキングアクチュエータ
2. レンズアクチュエータの構成例
   2.1　軸回動方式
   2.2　ばね支持方式
3. 設計上の留意点
   3.1　感度
   3.2　寄生共振
   3.3　ダンピング
   3.4　漏れ磁界
4. アクチュエータ特性の測定技術
   4.1　ホトニックセンサ
   4.2　二分割受光素子と顕微鏡の組合せ
   4.3　レーザドップラ速度計
   4.4　モーダル解析システム
5. 今後の課題

1. 光学系の基本構成
2. 光源
3. スポット位置エラー検出方式
4. 光磁気信号検出方式
5. マルチビーム技術
   5.1　マルチビームの光ヘッドの構成
   5.2　動作特性

1. 概説
2. VCM設計上のポイント
   2.1　推力から見た留意点
   2.2　共振点から見た留意点
   2.3　走行の平行性から見た留意点
   2.4　ガイドレール耐摩耗性から見た留意点
   2.5　ストッパに関する留意点
   2.6　外部スケールに関する留意点
   2.7　光軸の傾きから見た留意点

1. オーバライト機能の必要性
2. オーバライト方法とその特性
   2.1　磁壁移動を利用する方法
   2.2　2ビーム記録法
   2.3　多層膜を用いる方法
   2.4　磁界変調記録法

1. 光変調方式の種類
   1.1　交換結合多層膜を用いる方法
   1.2　磁壁移動を利用したパルス変調方式
2. 交換結合2層膜
3. 交換結合2層膜と初期化磁界を用いる方式
4. 初期化層を有する交換結合多層膜媒体を用いる方式
5. 光強度変調方式の特長及び問題点

1. オーバーライトの原理
2. オーバーライト実験
3. 実験結果

1. 記録過程シミュレーション
   1.1　シミュレーションモデル
   1.2　温度計算
   1.3　浮遊磁界計算
   1.4　磁壁磁界計算
   1.5　解析条件
   1.6　シミュレーション結果
2. 磁界変調記録方式
   2.1　コイル状磁気ヘッドの例
   2.2　浮上磁気ヘッドの例
   2.3　光と磁界の複合変調記録方式
3. 次世代光磁気ディスク装置へのアプローチ
4. 磁界変調記録方式の課題と展望

1. 磁界変調オーバーライト実験
2. 磁界変調オーバーライトの高記録密度化
3. デジタルオーディオディスクシステムの開発

1. 書換形光ディスクの標準化の状況
   1.1　130mm書換形
   1.2　90mm書換形
   1.3　その他の書換形ディスクの標準化
2. 書換形光ディスクの規格案の内容（130mmを例として）