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ULSI生産緊急フォーラム2000
ミニエンバイロンメントとウェーハ表面汚染対策


【開催日】2000年1月28日(金)
【会場】アルカディア市ヶ谷

世界に先駆けてミニエンバイロンメント(SMIF)を導入した台湾TSMCの体験に学び、300mmウェーハ工場の発塵・有機汚染問題とコントロールレベルを探る

コーディネータ  服部 毅 氏
  ソニー(株)コアテクノロジー&ネットワークカンパニー
 LSI事業開発本部 主幹研究員

◆開催プログラム 2000年1月28日(金)9時30分〜16時

開催の辞 (9:30〜9:40)

 コーディネータ  服部 毅

1.[特別講演]台湾における200o対応ミニエンバイロンメント導入の実際

(9:40〜11:30)

W.Y.Chen
TSMC Manufacturing Information Division
Deputy Directer

*英語による発表45分、遂次通訳40分、Q&A25分の予定です

<11:30〜12:20  ランチブレイク>

2.300oウェーハ工場におけるミニエンバイロンメントへの要求

(12:20〜13:20)

安田 利美
日本電気(株)半導体生産技術本部生産システム技術部
プロジェクトマネージャー

1.高清浄化のニーズ
2.局所清浄化技術の比較
3.ミニエンバイロンメント導入に向けての期待

3.ウェーハ表面汚染対策とミニエンバイロンメント

(13:20〜14:20)

山田 徹朗
富士通VLSI(株)VLSI研究所研究部第4研究室

1.パーティクル付着
2.ケミカル汚染クリーンルーム雰囲気
3.ケミカル汚染ミニエンバイロンメント
4.ケミカル汚染管理
5.望ましいミニエンバイロンメント

<14:20〜14:30  コーヒーブレイク>

4.300o工場におけるミニエンバイロンメントへの期待と課題

(14:30〜15:30)

舟橋 倫正
(株)日立製作所 半導体グループ 生産統括本部生産技術部 主任技師

1.φ300o世代に要求される清浄度
2.φ300o工場における生産形態
3.FOUPによる防塵とFOUPからの汚染
4.ミニエンバイロンメントの問題点

総 括 (15:30〜16:00)

 コーディネータ  服部 毅


【参加規定】

■受講料(1名につき)
46,000円(テキスト代、昼食代、コーヒー代を含む。)
※上記の受講料に別途消費税が課税されます。
(ランチブレイク:11:30〜12:20、コーヒーブレイク:14:20〜14:30)

■定員
100名(定員に達し次第、お申込みを締め切らせていただきます。)

■会場
アルカディア市ヶ谷(私学会館)
東京都千代田区九段北4-2-25  電話 03(3261)9921 (代)

【申込方法】

「セミナー参加申込」コーナーより、必要事項をフォーム内に記入の上、お申込みください。
 折り返し受講証と請求書をお送り致しますので、一週間以内に受講証が届かない場合はご連絡下さい。受講証は当日受付にご提示下さい。
 先着順に定員に達し次第締め切らせていただきますので、申し込みはお早目にお願い致します。

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